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填空題
前烘的目的是（）使膠膜中的溶劑只有初始濃度的（）。從而，使膠的（）性能穩(wěn)定。對正膠，前烘過度會使非曝光區(qū)的膠（）；前烘不足，會使膠的感光度（），對比度（），線條邊緣不陡直。所以，必須嚴(yán)格控制前烘的（）和（）。
答案：
去除膠膜中的大部分溶劑；5%；曝光；部分溶解；提高；降低；時間；溫度
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填空題
光刻膠的三種主要成分是：（）。正膠的感光劑是（），曝光使其（），正膠的曝光區(qū)在顯影后（）； 曝光使負(fù)膠的感光劑（），使曝光區(qū)在顯影后（）。
答案：
感光劑、基體材料和溶劑；重氮醌；長鏈分子斷裂；去除；交聯(lián)；保留
填空題
光學(xué)光刻機的主要曝光光線的是波長為（）的g線和（）的i線，適合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF準(zhǔn)分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
答案：
436nm；365nm；248nm；193nm
